深圳尼卡光學技術有限公司近日宣布，其在增強現實（AR）光學核心器件領域取得重大技術突破——自主研發的體全息光柵波導片已實現規模化量產。該成果不僅使核心性能指標達到國際領先水平，更在成本控制上實現跨越式突破，為全球AR終端設備的輕量化發展提供了關鍵技術支撐。這一進展標志著我國在AR核心光學器件領域突破了長期存在的技術壁壘與成本瓶頸，推動產業從“概念驗證”階段加速向“消費普及”邁進。

作為AR眼鏡的核心成像組件，光柵波導片的性能直接決定了設備的佩戴舒適度與顯示效果。尼卡光學此次發布的量產型波導片在重量、視場角和光效三大關鍵指標上實現顯著提升：單片重量僅3.5克，較傳統光學方案減輕60%以上，有效緩解了頭戴式設備的佩戴負擔；視場角（FOV）達30度，覆蓋人眼自然視場的核心區域，可滿足日常導航、辦公協作及輕度娛樂等主流場景的沉浸式需求；光效指標經第三方機構驗證達到1400nits/lm，為全球已量產AR波導片中的最高水平。

“高透光率與低功耗是該技術的核心優勢。”尼卡光學研發副總裁張磊在專訪中指出，“1400nits/lm的光效意味著在相同顯示亮度下，AR眼鏡的功耗可降低40%，這為終端廠商延長設備續航、縮小機身尺寸提供了關鍵支撐。”據介紹，該波導片采用特殊光學涂層工藝，透光率超過90%，同時能有效抑制環境光干擾，即使在戶外強光環境下仍能保持清晰顯示。

當前AR波導技術主要分為半導體光刻與體全息兩大技術路徑。半導體光刻方案因技術成熟度較高，長期占據中高端市場主導地位，但其產能爬坡緩慢、良品率低、成本高昂等問題始終制約著產業發展。尼卡光學選擇體全息光柵技術路線，通過全息記錄材料與激光直寫工藝的創新組合，實現了核心技術的自主可控。

“當產能規模突破10萬片時，我們的體全息方案成本僅為半導體路徑的五分之一。”尼卡光學CEO陳峰在主題演講中公布了這一顛覆性數據。他解釋稱，半導體光刻方案依賴12英寸晶圓產線，單條產線投資超10億元，且良品率僅70%-80%；而體全息方案采用卷對卷（R2R）量產工藝，設備投資成本降低60%，良品率穩定在95%以上，在大規模量產場景下具備顯著成本優勢。這一突破不僅為AR終端廠商提供了更具性價比的解決方案，更為整個產業規模化發展奠定了基礎。