近期，被譽為“浸潤光刻之父”的林本堅，中國臺灣清華大學半導體研究學院院長及臺積電前研發副總，在接受訪談時分享了對半導體行業未來的獨到見解。他特別提及，中國大陸在半導體領域或將開創全新局面，甚至可能孕育出如同DeepSeek般的革命性突破。

林本堅強調，中國大陸無需局限于7nm、5nm等先進制程的競賽，而應探索新材料與新架構的潛力。他比喻道：“就如同DeepSeek在全球算力領域掀起的波瀾，它不走尋常路，卻以超乎預期的速度和效率達成了目標。”他進一步闡述，利用這些創新手段，即便采用7nm制程，也能實現甚至超越5nm制程的功能。

在訪談中，林本堅還提到，面對外界的不斷鞭策，中國大陸正加大半導體領域的投資與研發力度。這種壓力或許將成為催生“半導體界DeepSeek”的催化劑。他解釋道：“當新材料與架構被巧妙融合，原本需要縮小尺寸的目標或許就能輕松達成，DeepSeek就是一個生動的例子。”

林本堅警示，如果中國大陸在半導體領域持續取得突破性進展，那么臺積電在2nm、3nm等先進制程上的努力可能會面臨被顛覆的風險。他坦言：“這將是一個嚴峻的挑戰，因為中國大陸不僅擁有成本優勢，還擁有龐大的市場。他們正全力以赴地投資與創新，一旦取得類似DeepSeek的成就，整個行業都將為之震撼。”

林本堅的觀點不僅揭示了半導體行業面臨的潛在變革，也引發了對未來競爭格局的深思。他的話語中透露出對行業創新的期待與對挑戰的警覺，為半導體行業的發展提供了新的視角和思考方向。